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1、工作模式：具有平面抛光、截面抛光和溅射镀膜三种工作模式。
2、潘宁离子枪数量：≥2把，配有稀土磁铁。
3、抛光角度: +10°到 -10°，每个离子枪可独立调节。
4、抛光速度:90μm/h -
样品精细制备
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样品刻蚀、抛光和离子溅射镀膜
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