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反应离子刻蚀机

规格型号：Etchlab200
仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 电子产品通用工艺实验设备
生产厂商： SENTECH
仪器设备类别： 通用
信阳师范大学
最大可装载直径200mm的晶圆片，可以直接刻蚀包括硅、硅化物、III-V族化合物半导体、电介质和金属等材料
反应离子刻蚀机主要是结合化学气相反应与等离子体刻蚀的方法，用于刻蚀硅、二氧化硅、聚苯乙烯、二氧化钛等材料，普遍用于晶体硅光伏电池的陷光绒面、半导体器件以及纳米电子材料等领域的研究
刻蚀包括硅、硅化物、III-V族化合物半导体、电介质和金属等材料
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