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JGP-560，真空室尺寸：梨型真空室，真空系统配置：分子泵、机械泵、闸板阀，极限压力：≤2.0x10-5Pa (经烘烤除气后) ，样品尺寸：Ф10mm，可放置6片，加热基片加热最高温度：600°C±1°C 。
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制备金属、半导体、绝缘体等薄膜材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。
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制备金属、半导体、绝缘体等薄膜材料
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在满足校内教学科研工作的基础上，对外实行共享，网上预约，或者提前电话联系，说明相关的技术指标和注意事项 。
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50元/小时
