磁控溅射镀膜机
- 规格型号：TPR-450
- 仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 电子产品通用工艺实验设备
- 生产厂商： 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
- 仪器类别： 通用
- 信阳师范大学
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极限真空度不高于6.0 × 10-5 Pa；基片台最高加热温度为500℃，转速0~30转/分钟，连续可调；永磁共焦磁控溅射靶3英寸2套，强磁靶3英寸1套，支持直流、射频电源溅射，靶角度45~ 90度可调；配100与20sccm质量流量计。
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可制备多种膜材料，包括金属、陶瓷氧化物等。可实现射频、直流以及3靶以下共溅射。
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金属或陶瓷膜材料直流或射频溅射制备。
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提前7个工作日联系。需具有一定的真空、镀膜等专业知识基础。
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100元/小时
