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1 技术规格
1.1 电子光学系统
1.1.1分辨率：二次电子分辨率：0.6nm@15KV，0.7nm@1kV，背散射电子分辨率≤1.5nm@1kV，以上参数均可实际检测。
1.1.2放大倍数：放大倍数可调范围10倍~1,000,000倍（宝丽来胶片基准），根据加速电压和工作距离的改变，放大倍数可自动校准，低倍率与高倍率之间无需模式更换；
1.1.3电子枪：超高亮度浸没式肖特基热场发射电子枪；
1.1.4加速电压0.01-30KV连续可调；
1.1.5束流基本范围：1pA～500nA；
1.1.6专利的光阑角度控制技术，物镜光阑角度可自动优化调节；
1.1.7物镜极靴实现无磁场泄露设计，磁透镜和静电透镜复合，能够高分辨观察磁性样品。
1.2样品室及样品台
1.2.1样品交换方式：具有抽屉式（样品直径200mm）和预抽室两种（样品直径100mm）；
1.2.2样品台：配置五轴全自动马达驱动优中心样品台，可旋转360度，倾斜-5°-70°，具有导航功能的样品座； -
2.1.1高位二次电子探测器、低位二次电子探测器和高灵敏度背散射电子探测器；→已配备
2.1.2样品束流检测器；→已配备
2.1.3原装进口电镜操作台和计算机工作站；→已配备
2.1.4多功能旋钮操作控制面板；→已配备
2.1.5多功能旋转样品座；→已配备
2.1.6抽屉式样品交换仓；→已配备
2.1.7预抽样品室；→已配备 -
可分析检测，送样检测
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按照学校规定
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协商
