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电子光学系统：电子枪：肖特基场发射发射体
加速电压：0.5～30 kV（0.1kV步进。5kV 以下可以10V 步进设定）
二次电子像分辨率(分析条件)：3 nm（加速电压30 kV）、20nm（10nA/10kV）、50nm（100nA/10kV）、150nm（1μA/10kV）、
背散射电子像分辨率：20nm（拓扑像、成分像），成分分辨可以清晰分辨ab黄铜
束流范围：10-12~3×10-6A、束流稳定度：±0.3%/h（50nA@10kV）
放大倍率：40倍～400,000倍，连续可调
X射线波谱仪（WDS）：
元素范围：4Be~92U
分析精度：优于1%（主元素，含量＞5%）和5%（次要元素，含量~1%）
谱仪数量：5通道 （配置10块分光晶体，其中四种满足Be、B、C、N、O等轻元素针对性高精度定量分析要求）
X射线出射角度：52.5°
罗兰圆半径：4英寸（101.6mm） -
可以完成金属、矿物、高分子材料等物质的微区化学组成定性和定量分析、微区化学组成线分布分析、微区化学组成面分布分析、微区化学组成相分析以及微区形貌观察等；广泛应用于冶金、地质、电子材料、生物、医学、考古等领域中，是矿物测试分析和样品成分分析的重要工具。
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无磁性，块状样品表面需抛光处理，粉末样品需超声分散处理，非导电样品需进行表面喷碳（或喷金）处理。
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提前一周网上预约。
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500元/样
