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真空腔室结构 立式前开门结构，后置抽气系统
真空腔室尺寸 Φ500×H420mm
加热温度 室温～500℃
溅射方式 上下溅射可选
旋转基片台 Φ150mm
膜厚不均匀性 Φ100mm范围内≤±5.0%
溅射靶/蒸发电极 Φ3英寸磁控靶3支，兼容DC/MF/RF溅射
工艺气体 2~3路气体流量控制
控制方式 PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统
占地面积 (主机）L1900×W800×H1900mm
总功率 ≥10KW -
可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等
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可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等
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按照河南工程学院大型科研设施与仪器开放共享管理办法（试行）执行。
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按照河南工程学院大型科研设施与仪器开放共享管理办法（试行）、河南工程学院分析测试中心仪器设备使用收费管理细则（试行）执行。院部收费细则参考我校分析测试中心同类型仪器设备标准执行。
