高真空磁控溅射镀膜机

"1、系统具有一个成膜室（304不锈钢腔体）He-检查泄漏率10-12 torr l/s; 除快速门(quick access door)外，所有端口均为CF端口；2、成膜室各配置6个φ4英寸靶枪(2个非磁性材料溅射靶枪, 4个磁性材料溅射靶枪)，每个溅射靶枪都配有气动挡板和水冷；3、成膜腔体真空度8×10-8 torr；主泵: 涡轮分子泵, 抽速700 (l/s)(N2); 极限压力10-10 torr；粗抽泵: 旋片泵；4、配置一套全系列真空计和控制器显示屏 (大气压~10-9 torr)；5、配置1台DC电源(1.5 kW)及1台RF电源(0.6 kW), 使用可编程开关切换溅射源；6、成膜腔室6英寸基板加热温度最高可达600 ℃, 配置有旋转基板台型电极(最大转速30rpm）；
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1、自动控制功能：抽气和排气, 多层膜沉积

镀膜

1)收费标准中仅为机时费，我方不负责检测或制作样品成败之责。需根据样品具体特性和要求面议! 2)时间计算:从样品装载及开机准备起算，至少收取一小时费用，其后以半小时为单位计价，未满半小时以半小时计价。3）按小时收费。4）限数十纳米级以上厚膜

校外：800元/小时；校内：600元/小时；院内：500元/小时