三靶磁控溅射沉积系统
- 规格型号：JGP-450
- 仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 电真空器件工艺实验设备
- 生产厂商： 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
- 仪器设备类别： 专用
- 河南大学
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1.圆筒形真空室，电动上掀盖结构；极限真空度：≤6.67×10-6 Pa ，系统从大气开始抽气，≤40分钟可达到6×10-4Pa；停泵关机12小时后真空度：≤5Pa
2.三套永磁靶，可兼容射频溅射与直流溅射；靶源直径尺寸：Φ60mm
3.基片尺寸2英寸圆形，加热最高温度800℃（控温精度±1℃），基片自转速度5～20转/分。
4.配三套气路，各配三套质量流量控制器（控制精度±5%）：200SCCM一套、100SCCM两套
5.一套进口射频电源，一套进口直流电源
6.进样室配反溅射组件，采用离子放电方式对基片进行反溅射清洗。 -
沉积薄膜
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沉积薄膜
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自备靶材和基片。靶材尺寸：Φ60mm、厚3-5mm。
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2元/小时
