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1.极限真空5×10-5Pa；2，真空系统：分子泵+机械泵；3，工作室温度：室温-500oC。4，工艺气体：SiH4, B2H6, PH3, CH4, H2, Ar，GeH4。
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制备p型，i型和n型非晶/微晶硅薄膜；制备异质结硅薄膜太阳电池；沉积制备氮化硅，氧化硅，GeSi薄膜。
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薄膜制备
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最多提前预约 7 天,最少提前 10 分钟预约
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硅和玻璃衬底上薄膜沉积：20元/样品，样品制备设备
