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高真空四靶材磁控溅射系统

规格型号:JGP 450
仪器分类:工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 其他
生产厂商: 沈阳科学仪器
仪器类别: 专用
河南大学
1. 具有4支直径为3英寸圆形平面磁控溅射靶(永磁靶3支,铁磁靶1支)
2. 腔室极限真空度2×10-5Pa
3. 从大气环境到工作背景真空5X10-4Pa时间≤30分钟
4. 膜厚均匀度优于3%
5. 基片加热可到500度,公转速度2-20转/分可调。
金属薄膜和半导体薄膜的制备
薄膜制备设备
如非现有靶材,无法提供镀膜服务;请提前一周咨询预约
200元/小时
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