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反应腔为AISI 316不锈钢，并经过特殊钝化处理，确保能够沉积Al2O3、ZnO、ZnS、CdS等氧化物、硫化物和金属。配备4路独立的前躯体源管路；真空泵抽速为80m3/h，真空泵极限真空度为0.1Pa。
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可在复杂基片衬底结构（如多孔材料、高深宽比的沟槽或者纳米颗粒,）上沉积制备高均匀度的高质量薄膜。
易更换的固、液、气态前驱体输运系统确保可以在硅平面基片，3D复杂基片及所有纳米尺度的特征器件上制备无颗粒薄膜。 -
可提供4寸以内基片上原子级膜层精度的薄膜制备服务
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只能在基片上沉积薄膜，请提前一周预约并联系管理员确定制备细节
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200元/小时
