-
1. 真空系统：真空室的极限真空度< 210-6 Torr；2. 磁控溅射系统：使用2个英国Korvus公司溅射靶枪，靶源直径尺寸为2 英寸，可兼容射频溅射，高功率脉冲与直流溅射、靶枪内设计有冷却管道，靶枪磁场优化设计，靶材利用率可达到40%。
-
1. 磁控溅射电子束蒸发复合镀膜系统为模块化真空腔体设计。多种技术组合，多变。
2. 可以实现独立的磁控溅射沉积系统和电子束蒸发镀膜系统的功能，而且能够实现磁控溅射系统与电子束蒸镀系统的联合使用。 -
薄膜沉积
-
最多提前预约 7 天,最少提前 10 分钟预约
-
20元 / 样品
