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等离子体增强原子层沉积

规格型号:R-200 Adv
仪器分类:其他仪器 -> 其他 -> 其他
生产厂商: Picosun
仪器类别: 专用
河南师范大学
1. 工作条件:
电源:适于实验室供电系统, 380-400VAC(±10%),50Hz, 三相五线制,温度:20-25℃,相对湿度:<70%。
2. 主要技术参数:
*2.1设备主腔体采用双腔(真空腔+反应腔)热壁反应腔室设计。真空腔体外壁无需水冷即可保持温度低于60摄氏度(确保人体接触安全)。
2.2 通过真空腔内的加热部件同时对衬底与反应腔体壁辐照加热,衬底与反应腔各部位均可被加热至450℃,反应腔体及衬底温度均可检测,温控精度满足±1℃以内。不能只对反应腔内壁进行局部加热,防止因腔壁处受热不均产生二次反应及污染。
2.3 反应腔体可以用来沉积8英寸(200毫米)的衬底,兼容8英寸以下的衬底。
2.4 反应腔体及真空腔体的密封盖通过气力升降机自动开关。
可以实现低温甚至常温薄膜沉积,特别适合于对温度敏感材料和柔性材料上的薄膜沉积。
1.对于部分金属氧化物的沉积;
2.对于部分金属氮化物的沉积;
3.对于部分零价金属沉积。
如有需要,提前联系管理员。
1200.00元/样品
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