无掩模板紫外光刻机
- 规格型号：ATS-07-UV litho
- 仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 半导体集成电路工艺实验设备
- 生产厂商： 托托科技（苏州）有限公司
- 仪器类别： 通用
- 郑州大学
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分辨率：1920*1080
光刻精度：2 μm
支持基片尺寸：3mm*3mm-150mm*150mm -
扫描曝光芯片，紫外激光把图形写到光胶衬底上。
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针对特定形状的器件制作专门的掩模
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提前一周预约，即时记录使用时遇到的各种问题。
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200元/小时
