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光电流成像系统

规格型号:nanoba<x>se-XperRam S
仪器分类:其他仪器 -> 其他 -> 其他
生产厂商: 韩国 nanoba<x>se
仪器类别: 专用
安阳师范学院
1. 显微镜:
明场反射式LED光源;机械式载物台XY控制/右手;机械式对焦/右手
2. 扫描模块
波长范围: 400~1550 nm; 扫描模式: 振镜点阵扫描; 扫描区域: 200 μm × 200 μm 搭配 MPLFLN 40X 物镜;包含3百万像素光学图像采集相机; (视场区域: 200 μm × 150 μm); 包含振镜控制器 (USB1.1)
3. 激发光
波长: 532 nm;功率: 1-100 mW可调;工作模式: CW;功率稳定性 (over 2 h): <3%;工作温度: 15 ~ 35℃
4. 光学滤波片
532 nm拉曼/荧光滤波片
- 低波数截止数: >40 cm-1; - 波长: 532 nm
光电流成像系统又叫扫描光电流显微镜,是一种用于检测材料光电流强度分布的专用设备。主要用来测量光电材料的光电响应信号和表征材料的光电特征,能够将光电材料对于光信号响应的不均匀性以可视化和量化的方式显示出来,可以广泛应用于研究光电探测器的量子效率,器件的电阻分布特征,研究太阳能电池光生电流的不均匀性,研究器件吸收和电荷生成的微区特性,以及光电材料界面,半导体结区的品质分布等。
带有电极结构的纳米光电子器件
提前半个月预约,由仪器负责人批准后方使用。
150元/机时
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