高真空磁控溅射薄膜沉积系统
- 规格型号：TRP450
- 仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 半导体集成电路工艺实验设备
- 生产厂商： 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
- 仪器类别： 专用
- 洛阳理工学院
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溅射室极限真空度：≤6.6x10-5Pa(经烘烤除气后)；（洁净真空环境）
系统从大气开始抽气：溅射室35分钟可达到6.6x10-4 Pa；（抽速快，缩短实验准备时间）
系统停泵关机12小时后真空度：≤10Pa；
1 、溅射真空室
真空室为圆筒形前开门结构，尺寸Ф450mmx400mm，全不锈钢结构。可内烘烤到100～150℃，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行电化学抛光国内首家钝化处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；手动前开门结构；靶安装在下底盘，基片转台在上盖板（也可以设计为靶在上、基片台在下的结构方式）。
2 、磁控溅射系统：3套
2.1 、靶材尺寸：2英寸；
2.2 、提供靶材：不锈钢、钛、铁各一块（仅供测试靶材用）；
2.3 、永磁靶（其中一个可溅射磁性材料)，射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷；
2.4 、每个靶都配备气动控制挡板组件1套；
2.5 、靶在下，向上溅射，具有单独溅射、轮流溅射、共溅射功能；
2.6 、暴露大气下，磁控靶可手动调节共溅射角度；
2.7 、500w直流电源，2台；
2.8 、500w全自动调谐射频电源，1台； -
镀制金属膜，陶瓷膜，介质膜等；
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制备金属薄膜，陶瓷膜
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预约前需提前沟通
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院内1000 元/小时, 院外-2000 元/小时,校外-3000 元/小时
