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μMLA配置Raster Scan曝光模块；光源为UV LED 365nm光源波长；输出功率9W；光源寿命10000小时
3.2 μMLA配置Vector Scan曝光模块，光源同时配置；Diode Laser (405nm)源波长；UV Diode Laser (375nm)源波长；405nm输出功率120mW；375nm输出功率70mW；光源寿命10000小时 -
μMLA设备主要通过无掩模光刻的方式在铬片掩膜版（MASK）、陶瓷基片以及硅片上进行无掩膜曝光，以便在光刻胶表面生成尺寸精确的特征图形。
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光刻机
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禁止以下任何样品：含有粉尘、挥发性物质、腐蚀性化学品、生物活性、油污性。
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面议
