高真空等离子体增强化学气象薄膜沉积系统
- 规格型号：创世微纳PECVD-601
- 仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 电真空器件工艺实验设备
- 生产厂商： 北京创世威纳科技有限公司
- 仪器设备类别： 通用
- 洛阳师范学院
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样片数量及尺寸：1片Ф6英寸
沉积腔体：高真空系统
沉积不均匀性：±3%-±6%
沉积速率：20-600nm/min（视具体材料与工艺）
工作台：可升降，高度可调
加热：常规加热，可选高温加热 -
薄膜沉积
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沉积材料，包括并不限于硅基（Si）薄膜、碳基（C）薄膜、硅锗合金（SiGe）、钨硅合金（WSi2）、W、SiC。
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校外用户申请使用仪器请提前3天在系统预约，并通过电话或短信线下联系仪器管理员确定使用日期和注意事项，管理员将在一周内安排相关加工服务。
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多晶硅薄膜250元/样
氮化硅薄膜300元/样
碳基薄膜 350元/样
