无掩膜紫外光刻机
- 规格型号：ATS-07-UV Litho-ACA
- 仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 半导体集成电路工艺实验设备
- 生产厂商： 赫智科技(苏州）有限公司
- 仪器类别： 通用
- 河南省科学院物理研究所
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曝光波长：405nm;
数字掩膜板分辨率：1920*1080；
支持两个光刻镜头，a)光刻镜头1：光刻速度20mm2/min@1.5μm且工作距离为20mm;b)光刻镜头1：光刻速度3mm2/min@1μm且工作距离为13mm;支持显微观测且不会因其光刻胶变性，拼接精度±0.2μm。 -
利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性的曝光，进而将设计好的电路版图转移到硅片上形成集成电路，这一工艺就是紫外光刻技术。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了所制造的集成电路的集成度，也成为了评价光刻设备品质的关键指标。
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构筑微纳器件
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样品要求：衬底尺寸：1cm*1 cm-10cm*10cm，
样品厚度：小于200 nm -
600元/小时
具体收费标准请提前与设备管理员联系确定。
