-
1.电子光学系统
1.1电子枪类型：肖特基场发射电子枪
1.2点分辨率：≤0.23nm@200kV；
1.3线分辨率：≤0.10nm@200kV；0.14nm@80kV；
1.4背散射电子分辨率：≤1.0nm@200kV；
1.5 STEM BF/DF分辨率：≤0.16nm@200kV；≤0.31nm@80kV；
2.能谱仪系统
2.1探测器类型：≥100mm2电制冷型，无需液氮；
2.2能量分辨率： ≤136 eV；
2.3元素分析范围：4Be至92U
2.4具有定性和定量分析功能，带有点、线、面分布分析软件； -
主要用于材料的高分辨形貌观察和微区的晶体结构分析，系统有电子光学系统、高压系统、真空系统等部分组成。可以在极短时间内得到高分辨率的图像观察和成分分析，结合高灵敏度的能谱仪可以实现快速的成分分析。
-
（1）形貌分析：可获得样品的形貌、粒径、分散性等相关信息；
（2）结构分析：对样品进行纳米尺度的微分析，如：高分辨晶格条纹像，选取电子衍射等；
（3）成分分析：可对样品进行能谱点测、线扫、面扫，获得样品中的元素在一个点、一条线、一个面的分布情况。 -
1.透射电镜不能做磁性样品，样品中不得含有铁（Fe）、钴(Co)、镍(Ni)等磁性元素。
2.对于粉末和液体样品，要求样品均匀分散在支持碳膜上并且干燥。
3.易潮解的样品，请提前真空干燥处理。
4.高分辨样品要求厚度在10nm以下。 -
800元/小时
