-
真空性能
极限真空度：≤5.0×10⁻⁵ Pa（分子泵）或 ≤3.0×10⁻⁶ Pa。
抽气速率：大气压 → 8×10⁻⁴ Pa ≤ 30分钟。
漏率：≤5×10⁻⁴ Pa·L/s（新设备空载）。
蒸发源配置
金属蒸发源：4-8组，支持Au、Ag、Al、Cu等金属蒸发，电流 ≤150A。
有机蒸发源：3-6组，控温范围室温~500℃（精度±1℃），可蒸镀MoO₃、LiF等化合物。
基片处理能力
基片尺寸：2.5cm×2.5cm ITO玻璃。
控温范围：衬底加热室温~300℃（可调）或水冷，源基距300-350mm。
旋转速度：基片台公转0-20 r/min可调。
膜厚控制
配备4套晶振在线监测系统，均匀性≤±3%，厚度精度达纳米级。
-
镀膜类型
金属膜：Au、Ag、Al电极层，用于太阳能电池、LED器件。
有机/无机复合膜：如MoO₃空穴传输层、LiF电子注入层。
多层膜系：支持共蒸（复合膜）或分蒸（交替多层）工艺。
应用领域
太阳能电池研究、超导量子器件（如约瑟夫森结）、光学薄膜制备。
指纹检测（刑事科学）、柔性电子器件开发。
特殊工艺
手套箱集成：无水无氧环境下完成衬底预处理-镀膜-后处理全流程。
掩膜板定制：高精度刻蚀掩膜，支持复杂图案镀膜。
-
技术支持
工艺开发：提供膜厚优化、材料适配方案（如钙钛矿电池电极工艺）。
设备培训：操作规范、紧急故障处理（如分子泵停转应急流程）。
维护保障
定期保养：分子泵油更换、密封圈检测（建议每6个月1次）。
故障响应：48小时内远程诊断，72小时现场支援（部分厂商承诺）。
扩展服务
真空互联：与磁控溅射、MOCVD设备联用，实现多层膜原位沉积。
膜层分析：提供均匀性、附着力测试报告（需额
-
操作规范
安全防护：必须穿戴防静电手套、护目镜，严禁触碰高温部件。
真空流程：
开机前检查水冷系统（水温≤25℃）、气密性；
停机时先关闭电离规，分子泵停稳后再放气。
样品要求
基片清洁：表面无油脂、灰尘，否则影响膜层附着力。
尺寸兼容：碎片需粘贴于2英寸Mo托上，避免遮挡蒸发源。
预约与管理
院内用户单次预约≤1周，48小时未使用自动释放权限。
自备靶材需符合规格（磁性材料厚度≤3mm）。
应急处理
突发停电：立即复位电源，待分子泵停稳后重启。
镀膜异常：速率波动＞10%时暂停，检查晶振探头或蒸发源电流。
-
用户类型收费方式价格范围备注校内用户（自助）按天收费200元/天限共溅射腔室，最长预约1周校内用户（非自助）按小时收费250-300元/小时短时镀膜按300元/小时起校外用户按小时收费400元/小时含技术操作费，靶材另计靶材使用自备或平台提供按膜厚/材料收费如Au、ITO等贵金属需额外计价
