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激光：激光定位精度：≤±0.01 mm 重复定位精度：≤±0.002 mm
磁控溅射设备：膜厚均匀性：≤±3％@100 nm
退火烧结炉：温度均匀性：≤±5℃温度波动：≤±0.5℃
真空蒸镀设备：膜厚均匀性：≤±5％@100nm
桌面式刮涂机：膜厚均匀性：≤±5％
高精度狭缝涂布机：膜厚均匀性：≤±3％ -
制备钙钛矿太阳能电池各功能层，组成30*30 cm大面积钙钛矿组件
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无
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