大面积磁控溅射镀膜系统
- 规格型号：QHV-CM300
- 仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 电真空器件工艺实验设备
- 生产厂商： 沈阳奇汇真空技术有限公司
- 仪器类别： 专用
- 河南省柔性电子产业技术研究院
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溅射距离 50~80mm连续离线可调。
矩磁控靶 矩形磁控靶×2，靶面尺寸80×600mm。
电源 配备国产直流电源1套（3KW）用于Cu、国产射频溅射电源1套（2.5KW）用于NiOx。
基片温度 室温到250℃。温度均匀性±3℃。
工艺 可制备薄膜: NiOx,SnO2，ITO，Cu薄膜。
节拍 在镀膜条件准备完毕后，20分钟/片。
膜厚均匀性 ≤±5%，25个测试点以5×5矩阵方式分布。 -
大面积均匀镀膜、多材料沉积、高精度控制等
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用于在大型基板（如玻璃、太阳能电池板、柔性薄膜等）上高效沉积均匀薄膜
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需培训后使用
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协议收费
