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1、 基片架4英寸，可加热（室温~500℃），可旋转（公转速度2~20转/分）；
2、 靶面到基片距离60~100mm可调；
3、 靶材要求：2英寸圆形平面靶。
4、 镀膜室的极限真空：7×10-5Pa；
5、 磁控溅射电源：500W直流溅射电源；500W可自动调谐射频源（13.56MHz）。 -
能实现金属、氧化物等薄膜溅射沉积。
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薄膜溅射沉积。
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使用需提前1周预约。
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200元/小时
