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                                    1. 离子源种类:液态Ga离子源;
 
 2. 交叉点分辨率:优于或等于4.0 nm@30 kV;
 
 3. 束流强度:1pA-100 nA;
 
 4. 离子源寿命:≥1000小时;
 
 5. 电子枪类型:肖特基(ZrO/W)场发射灯丝;
 
 6. 最佳距离分辨率:0.6 nm@15 kV;0.9 nm@1 kV
 
 7. 束交叉点分辨率:0.6 nm@15 kV;1.5 nm@1 kV
 
 8. 束交叉点工作距离:4 mm;
 
 9. 束流强度:176 nA;
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                                    SEM,EDS,EBSD,FIB
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                                    扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料和非金属材料等检验和研究。在材料科学、金属材料、陶瓷材料半导体材料、化学材料等领域,进行材料的微观形貌、组织、成分分析。各种材料的形貌组织观察,材料断口分析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体/晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶粒取向测量。
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                                    1. 粉末样品要求:样品量需要提供大概10 mg;
 
 2. 液体样品要求:样品量≥300 ul,溶剂和溶液不能发生反应,溶液务必能干燥,不易干燥的溶液需要说明干燥条件,请根据样品成分选择对应的基底;;
 
 3. 块体/薄膜样品要求:长宽≤1 cm,厚度≤1 cm,样品质量不超过200 g;
 
 4. 需要脆断的样品要求:尺寸需要≥2×2 cm,厚度<0.5cm,较厚的样品建议尺寸准备大些;
 
 5. 易分解样品需明确分解条件(如温度等),若样品极易分解可能不能安排测试,因为分解后产生物质可能对测试仪器造成影响;
 
 6. 导电性差(如半导体金属氧化物、生物样品及塑料、陶瓷等)或强磁样品建议选择喷金,不喷金可能会影响拍摄效果;
 
 7. 要求样品无毒、无放射性、干燥无污染、热稳定性好、耐电子束轰击;
 
 8. 其它测试条件及样品可咨询本实验中心。
 
 9.送样前提前联系测试老师。
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                                    SEM:350元/小时;
 EBSD:800元/h
 FIB:2000元/h
 
             
                                     
                                     
                                     
                
                 
                
                