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电子束分辨率：0.6nm@15kV 1.2nm@1kV
离子束分辨率： 2.5nm@30kV
加速电压：0.2 ~ 30kV
放大倍率：4X~2,000,000X -
1.离子束刻蚀微纳结构加工；
2.透射电镜样品制备；
3.电子束、离子束沉积Pt. -
聚焦离子束 (Focused Ion Beam, FIB) 设备是一种利用高能离子束进行微观加工和分析的先进仪器，广泛应用于材料科学、微电子学、生物学以及纳米技术领域。其核心原理是通过液态金属离子源（通常为镓离子源）生成高能离子束，利用电磁透镜对离子束进行聚焦，实现对样品表面进行高精度的加工、刻蚀和成像。
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样品无磁性，无水分、无挥发性、无放射性物质。
样品尺寸：直径小于 60 mm（预交换室）. -
院外用户: 2400/h(送样)，2000/h(自主上机)
院内用户: 1200/h（送样），1000/h(自主上机)
提供制样服务: 常规样品:4000元/样，特殊样品另议价
