
等离子体刻蚀机
- 规格型号:GSE、C200
- 仪器分类:工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 半导体集成电路工艺实验设备
- 生产厂商: 北京北方华创微电子装备有限公司
- 仪器设备类别: 专用
- 河南师范大学
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用于石墨烯、MoS2、Si等多种材料的刻蚀。刻蚀速率≥15nm/min,刻蚀深度≤50nm
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采用感应耦合高密度等离子实现多种材料的刻蚀
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实现多种材料的刻蚀
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预约使用
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1000元/小时