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1. 极限真空度：6.6×10-6Pa
2. 尺寸Ф450mm×400mm，全不锈钢结构。可内烘烤。
3. 磁控溅射系统：3套
4. 靶材尺寸2英寸；
5. 基片尺寸和数量：最大可放置1片4英寸圆形样品；
6. 基片通过进口加热丝加热方式，加热炉加热温度：室温-600°C； -
系统主要功能为开发二维金属、氧化物、
氮化物等材料生长、镀膜等浅表材料改性等；
镀膜需自备靶材 -
磁控溅射仪器是通过在真空环境中利用磁场约束电子以提高气体电离效率，使高能离子轰击靶材并将溅射出的粒子沉积到样品表面形成薄膜的设备。
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表面清洁、光滑，直径≤50 mm
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1200元/小时
