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溅射室极限真空度：≤6.0×10-6Pa(经烘烤除气后)；（洁净真空环境）；磁控溅射系统3套；500W直流电源2台，500W全自动调谐射频电源1台；磁控靶与基片距离可调，调节范围90~130mm；基片通过进口加热丝加热方式，加热炉加热极限温度800°C，连续可调；基片自转速度5~20转/分连续可调；样品台安装-1000V偏压电源（辅助沉积）；真空测量，采用数显真空计进行测量，测量范围1×105Pa~1×10-8Pa；工艺真空测量，采用薄膜压强真空规进行测量，测量范围13Pa~0.013Pa。
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薄膜或涂层制备，可应用于半导体器件、集成电路、传感器等微电子器件制造领域，透明导电膜、反射膜、增透膜等光电子器件领域，具有防腐蚀、耐高温、抗氧化、耐磨损、高强度等高性能纳米表面功能薄膜适用的机械工业领域等。
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薄膜/涂层制备
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因溅射腔为高真空环境，基材需洁净无污染、呈非流体状态且易于固定，便于制备出高质量的薄膜或涂层样品。
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所内定价（送样）：400元/小时（自带靶材），开机费：200元，预约机时大于3小时，免收开机费；
院内定价（送样）：500元/小时（自带靶材），开机费：200元，预约机时大于5小时，免收开机费；
院外定价（送样）：800元/小时（自带靶材），开机费：200元，预约机时大于5小时，免收开机费。
