无掩模光刻机
- 规格型号：TTT-07-UV LithoACA
- 仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 半导体集成电路工艺实验设备
- 生产厂商： 赫智科技（苏州）有限公司
- 仪器设备类别： 专用
- 郑州大学
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1光刻精度：
光刻镜头1：最小线宽≤1.2 µm，工作距离≥19 mm；光刻镜头2：最小线宽≤0.8 µm，工作距离≥12 mm
2. 曝光波长：385 nm
3. 数字掩模板分辨率：≥1920 * 1080，微镜尺寸≤7.6 um
4. 样品厚度：≥8 mm
5. 样品尺寸：≥130 mm * 130 mm -
光刻图形制作
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光刻图形制作
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委托前请先联系是否符合需求。
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20000元/天
