无掩膜紫外光刻机

1) 光刻精度：
光刻镜头1：最小线宽≤0.8 µm，工作距离≥9 mm；
光刻镜头2：最小线宽≤0.4 µm，工作距离≥5 mm。
2) 具备交互式套刻指引功能：支持实时光刻图形的预览
3) 具备光学主动对焦功能：支持激光主动对焦
4) 支持光刻镜头电动切换：支持三个镜头电动切换，无需手动更换光学镜头
5) 曝光波长：390 nm
6) 数字掩模板分辨率：≥1920 * 1080，微镜尺寸≤7.6 um
7) 显微观测：支持显微观测且样品上旋涂的光刻胶在显影曝光后不会引起变性
8) 配备样品台，样品最大支持厚度：≥8 mm
9) 配备样品台，样品最大支持尺寸：≥130 mm * 130 mm
10) 支持样品电动旋转：电动样品旋转台，行程≥±25°
11) 样品吸附：采用非接触式真空吸附技术，支持样品吸附
12) 设备内置软件系统：原位光绘功能、物像绑定功能、成像拼接功能、畸变矫正功能
13) 画图软件：支持阵列画图、套刻画图
14) 软件升级功能：支持原位绘制光刻图形；支持样品图形和光刻图

利用高速、高精度、高灵活性的紫外光刻，实现掩膜版制作、光刻胶直写以及多层套刻直写等

广泛用于超材料、材料物理、超薄二维半导体材料、磁性材料、光电材料、纳米器件制作或者微加工等诸多领域​​​​​​​。

需培训后方可上机操作

开机费：100元
校内：200元/小时
​​​​​​​校外：300元/小时