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光学超分辨纳米结构成像系统

规格型号:XIOPM-5200
仪器分类:分析仪器 -> 电子光学仪器 -> 其他
生产厂商: 中国科学院西安光学精密机械研究所
仪器设备类别: 专用
郑州大学
1、整机系统时间分辨率:3.5ps
2、重复频率:1kHz
3、光阴极有效尺寸:条纹管:φ17mm;整机系统:≥8mm×8mm(可用于计算成像
CUP)
4、光学狭缝尺寸:长度≥20mm,宽度 0~4mm 连续可调
5、光阴极材料:多碱阴极
6、光谱响应波段:200nm-800nm
7、光阴极响应非均匀性:<12%
8、条纹管输出窗:光纤面板,P43 荧光粉,尺寸 φ40mm
9、整机系统空间分辨率 静态:≥24 lp/mm@CTF=10%;动态:≥ 18 lp/mm@CTF=10%
10、扫描档位:提供 8 个以上档位
用于超快光学信号探测与成像;包含核心探测像管、电源及控制系统、光学耦合模块、扫描模块、图像增强模块、读出相机等
用于超快光学信号探测与成像;包含核心探测像管、电源及控制系统、光学耦合模块、扫描模块、图像增强模块、读出相机等
操作前检查
确认设备电源、光路、物镜等部件状态正常,无损坏或异常。
检查样品是否符合要求(如厚度、荧光标记等),避免因样品问题导致成像失败或设备损坏。
操作中注意事项
严禁湿手触碰光学镜片、物镜等部件,避免污染或损坏。
调焦或改变光路时,避免直接接触光学组件,防止产生指印、污渍等影响成像质量。
禁止随意拆卸或更改系统组件,如有必要,需经专业技术人员指导。
操作后维护
关闭设备电源,清洁控制面板及设备表面,避免灰尘进入设备内部。
使用遮光罩或保护罩遮挡光学镜片,防止污染或损坏。
每小时1000元
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