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（1）真空相关：不同系统的真空泵组配置不同，如 OPTIvap 4 标配前级泵干泵抽速 11.4m³/h ，标配高真空泵涡轮分子泵抽速 700l/s；磁控溅射镀膜系统前级泵 EdwardsnXDS10i 真空泵抽速 11.4m³/h，主泵 ATH1603 全磁悬浮分子泵抽速 1350l/s (N₂) 。各系统真空度指标也有差异，像磁控溅射镀膜系统溅射工艺腔内部极限真空度 < 3x10 - 7mbar
（2）膜厚相关：OPTIvap 标准膜厚均匀性 ±3%（特殊定制 ±1%）；磁控溅射镀膜系统膜厚均匀性 <±2.5%@4"，不同批次厚度误差不超过 ±2%
（3）电源参数：300w 射频电源工作频率 13.56MHZ，输出功率 5 - 300w（负载 50Ω ）等；500w 脉冲直流电源弧检测响应时间 < 95ns
（4）样品台参数：如磁控溅射镀膜系统样品台可旋转（0 - 30rpm）、加热（50 - 500°C，温控精度 ±1°C ）；OPTIvap 系列样品台有多种控温方式及不同温度范围
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适用于储能电池、有机光电器件（OLED、OPV）、光学镀膜、半导体器件、光伏电池等领域的镀膜工艺。
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磁控溅射镀制备具有优异性能的金属、合金或化合物涂层，如硬质涂层、防反射涂层等。主要应用包括:在显示面板制造过程中，磁控溅射镀膜技术可用于制备各种金属膜和半导体膜，以提高显示面板的性能和稳定性:在太阳能电池板制造过程中，磁控溅射镀膜技术可用于制备减反射膜、抗反射膜等，以提高太阳能电池的光电转换效率;在半导体制造过程中，磁控溅射镀膜技术可用于制备各种金属膜、半导体膜和绝缘膜等，以实现微电子器件的制造。
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仪器设备使用应确保操作安全、保障人员健康并维护设备正常运行。
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正常时段机时费500元/小时（材料额外收费），开机费300元。
特殊时段（每日22:00 - 次日6:00）机时费调整为400元/小时 。
开机费及计费规则：开机费统一为300元，主要用于补偿每次设备启动时的能耗、设备校准等成本。所有测试不足1小时按照1小时计费（尽量集中测试）。
