-
1.激光器:配置激光器功率 50mW的 532nm 及激光器功率 300mW的 785nm 激发波长的双激光器；
2.光谱仪:
2.1灵敏度:硅三阶峰(约在1440cm⁻¹)的信噪比≥40:1，并能观察到四阶峰。
2.2光谱范围：200nm 到1100nm，全光谱范围内可快速连续扫描。
2.3光谱分辨率:1cm⁻¹。
2.4 光谱重复性:±0.05cm⁻¹。光栅不转动时(静态取谱)520峰中心位置重复性:±0.02cm⁻¹;
2.5 可实现自动切换不同的激发波长，自动聚焦透镜组，保证每个透镜 95%以上的拉曼信号透过率;
3.CCD探测器：响应范围:200nm-1100nm，半导体制冷:-70℃。
4.共焦技术:软件控制自动调整狭缝大小，在:10-1000um范围内连续可调;
5.共焦显微镜:配备 10X原装目镜，物镜:5X、10X、100x 物镜;
6.原位测试附件:配置原位电催化池、锂电原位池，可以直接放置于拉曼光谱仪自动样品台进行原位测试。 -
可应用于材料鉴定与表征：如晶体结构分析、聚合物与高分子鉴别与分析、表征纳米材料碳纳米管、石墨烯的层数、缺陷度、手性等、、半导体材料：测量应力/应变、掺杂浓度、成分和晶体质量等。可实现化学反应监测（可进行原位/实时监测，跟踪反应过程、中间产物和反应机理）及相变研究（研究材料在温度、压力变化下的相变过程）。
-
可应用于材料鉴定与表征：如晶体结构分析、聚合物与高分子鉴别与分析、表征纳米材料碳纳米管、石墨烯的层数、缺陷度、手性等、、半导体材料：测量应力/应变、掺杂浓度、成分和晶体质量等。可实现化学反应监测（可进行原位/实时监测，跟踪反应过程、中间产物和反应机理）及相变研究（研究材料在温度、压力变化下的相变过程）。
-
需与设备管理员沟通具体样品要求
-
具体收费需与设备管理员沟通
