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X射线光电子能谱仪

规格型号:PHIGENESIS500
仪器分类:工艺实验设备 -> 其他 -> 其他
生产厂商: ULVAC-PHI
仪器设备类别: 通用
河南科技大学
1) 能量分辨率:对Ag3d5/2峰,半峰宽(FWHM)≤ 0.48 eV。
2) 大束斑能量分辨率和灵敏度:对Ag3d5/2峰,能量分辨≤1.0 eV时,光源功率≤100 W条件下,计数率强度≥6 Mcps。
3) 微区分析(X射线束斑≤10 µm)能量分辨率和灵敏度:对Ag3d5/2峰,能量分辨≤0.6 eV时,计数率强度≥50 Kcps,分析功率≤1.3W。
4) 微区分析(X射线束斑≤10 µm)能量分辨率和灵敏度:对Ag3d5/2峰,能量分辨≤1.0 eV时,计数率强度≥100 Kcps,分析功率≤1.3W。
5) 微区分析( X射线束斑≤20 µm)能量分辨率和灵敏度:对Ag3d5/2峰,能量分辨≤0.6 eV时,计数率强度≥200 Kcps,分析功率≤5W。
6) 微区分析( X射线束斑≤20 µm)能量分辨率和灵敏度:对Ag3d5/2峰,能量分辨≤1.0 eV时,计数率强度≥400 Kcps,分析功率≤5W。
7) 能够执行点分析、线扫描、面分析、化学态成像、深度剖析、变角AR-XPS。
8) 化学态成像模式:扫描X射线成像模式;每个像素点都有对应的图谱。
X射线光电子能谱仪(简称XPS),通过使用X射线入射固体样品表面并采集从样品表面产生的光电子,提供表面的元素成分、元素化学态信息。XPS的分析深度小于10nm,被广泛应用于分析无机化合物、合金、有机高分子化合物、能源电池材料、催化材料等,表征表面成分,表面缺陷(腐蚀,异物,污染,分布不均等),表面多层薄膜等,对于各种材料开发,材料剖析与失效机理的分析和研究具有不可替代的作用。
主要服务内容包括:样品表面元素组成分析(Li–U,H、He除外)、元素化学态及价态分析、表面污染与氧化层分析、薄膜及涂层成分分析、元素半定量分析、微区成分分析、线扫描与面分布分析(Mapping)、深度剖析(离子刻蚀深度分析)等。同时可针对半导体材料、金属及合金、能源材料、催化材料、高分子及功能薄膜等样品提供表面化学状态及界面信息分析,为材料研发、器件制备及失效机理研究提供重要数据支撑。
1. 固态非磁性样品:不含挥发性物质、无毒、无辐射性、无腐蚀性、表面清洁;确保样品干燥充分。 2. 样品物性/外形 (1)导体、半导体和绝缘体均可进行常规XPS测试;UPS需确保样品导电性良好,表面平整、干净,制样尽可能新鲜;(2)对于不规则形状样品,需要送样人将样品加工成片状,建议上下面互为平行面; 3. 样品用量:(1)粉末、大颗粒、小圆棒:体积大于0.2 mL;如果需要压片,送样量(体积)应适当增加到0.75-1 mL;(2)薄膜/片状/块体样品:单个样品建议长×宽在3 mm × 3 mm以内,厚度≤3 mm;(3)深度剖析样品建议长宽在5 mm ×5 mm左右,厚度≤3 mm。
送样前至少提前1天预约;水氧敏感样品、特殊样品及特殊类型测试:至少提前2天联系。
常规XPS测试(全谱+元素窄谱分析)参考收费为300元/样;元素精细谱增加测试按50元/元素计费;XPS成像或面分布分析400元/小时;角分辨XPS300元/角度;离子刻蚀表面清洁100元/次;深度剖析测试500元/小时;UPS价带测试600元/样。
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