GNAD-E410多能场辅助研抛试验机
- 规格型号：GNAD-E410
- 仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 半导体集成电路工艺实验设备
- 生产厂商： 北京艾姆希半导体科技有限公司
- 仪器设备类别： 通用
- 郑州航空工业管理学院
-
1）晶圆尺寸：4英寸及以下；
2）总厚度偏差（TTV）在±3 μm以内；
3）抛光后样品的表面粗糙度Ra ≤5 nm；
4）显微镜200倍明场下无明显划痕，崩边，毛刺等；
5）工作盘直径：420 mm；
6）摆臂驱动转速: 0-120 rpm；
7）盘转速: 0-120 rpm；
8）夹具背压力：0-3.5 kg，误差2 g/cm²； -
半导体材料芯片的研磨减薄，底面、表面、端面的电化学机械抛光
-
可用于硅、碳化硅、氮化镓、锑化镓、磷化铟、砷化镓、碲锌镉、碲镉汞、铌酸锂等多种材料半导体材料芯片的研磨减薄，底面、表面、端面的化学机械抛光。
-
不足一小时按一小时收费；加工费不含材料费。
-
300元/h，自配抛光工具和抛光液；如需信号提取另加50元/h
