深刻机（DRIE）
- 规格型号：omega LPX ICP-SR
- 仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 半导体集成电路工艺实验设备
- 生产厂商： SPTS Technologies limited
- 仪器类别： 通用
- 郑州大学
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1、4英寸晶圆
2、刻硅：Si、Ti、Pt等多种材料
3、EBS电压及He冷背压
4、刻蚀速率：0.01~3.5um/min
5、侧壁角度：90°+-1° -
目标材料上面等离子体刻蚀深槽，主要应用于MEMS
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MEMS的刻蚀
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待修，暂时不对外开放。
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1000元/时
