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平面抛光面积：直径16mm；截面切割面积：2mm*1mm；容纳样品最大直径32mm，最大高度15mm。
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是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备，对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。它采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光，去除损伤层，从而得到高质量的样品，另外，将这两支离子枪对准靶材溅射，可用来对样品做导电金属膜沉积处理，以防止样品在电镜中发生荷电效应。经过PECS II进行样品制备后的样品，非常适用于在SEM、光镜或者扫描电子探针上进行成像、对于样品制备要求很高的EDS，EBSD，CL，EBIC分析提供了最佳解决方案。
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针对煤、页岩和其他硬/软复合材料、多孔材料、脆性材料及材质不均一性材料，采用离子束抛光技术获得真实的平整截面。
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请提前一周进行预约
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表面抛光 1000元/样
