超高真空多靶磁控溅射镀膜系统
- 规格型号：JGP-560
- 仪器分类：工艺实验设备 -> 电子工艺实验设备 -> 半导体集成电路工艺实验设备
- 生产厂商： 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
- 仪器设备类别： 专用
- 平顶山学院
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极限压力：2.010-4Pa（经烘烤除气后）。
恢复真空时间：40分钟可达到6.610-4Pa。
磁控靶组件：永磁靶5套；靶材尺寸φ60mm；
样品尺寸：φ30mm，可放置6片。
运动方式：0~360°往复回转。 -
主要用于纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的研究开发。
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纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。
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仪器设备采用专人管理制度；使用前须向管理人员提前预约；严格按照规定的操作程序进行仪器使用；使用完毕，保持仪器的清洁卫生；认真填写仪器使用登记表。
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根据实验服务项目的技术要求难易度，采取不同的收费标准。
