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1.X射线发生器：最大输出功率9 kW。
2.X射线光源：Cu旋转靶；电流10-200 mA；电压20-45 kV；焦斑尺寸0.4×8 mm2。
3.测角仪：三重光学定位高精度θ/θ立式测角仪，最小步进1/10000。
4.自动双光路系统（CBO）：聚焦光路和平行光路可随时切换。
5.探测器：半导体阵列探测器（0维和1维），最大计数率1×109 cps，具有消荧光模式扫描功能。
6.其它附件：Johansson Kα1光路、小角散射测试系统、多功能样品台（薄膜分析）、毛细管样品台、PDF2数据库。 -
广泛用于样品的物相定性和定量分析、晶体结构解析、晶粒大小测定、结晶度测定；薄膜样品的粗糙度、反射率、密度及厚度分析；纳米材料的粒度和孔径分布以及高分子材料的长周期分析。
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用于样品的物相定性和定量分析、晶体结构解析、晶粒大小测定、结晶度测定；薄膜样品的粗糙度、反射率、密度及厚度分析；纳米材料的粒度和孔径分布以及高分子材料的长周期分析。
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请申请者提前1周向我实验室提出申请，我实验室经过征询后判定是否符合共享条件，通知申请方，并与符合共享规定申请方沟通使用时间、使用条件、使用方式等。
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根据实验服务项目的技术要求难易度，按照学校的统一标准进行收费。
