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1、梨型真空室尺寸Ф550mm x350mm，电动上掀盖结构，可内烘烤100～150℃，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；
2、靶材尺寸：Φ2英寸（其中一个可以溅射铁磁性材料）；
每个靶射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷，向上溅射成膜； -
1、用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。
2、系统主要由溅射真空室、进样室、永磁磁控溅射靶（三个靶）、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。 -
薄膜材料制备、电极制备、多层薄膜制备
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仪器设备采用专人管理制度；使用前须向管理人员提前预约；严格按照规定的操作程序进行仪器使用。
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根据实验服务项目的技术要求难易度，采取不同的收费标准。
