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1、 主机形式：蒸发室与抽气室为整体焊接式；水、电、气路有故障自动报警和保护系统；
2、真空系统：双扩散泵，常温下腔室真空度可达2×10-4Pa，主泵采用国内优质产品；
3、 坩埚：十二穴坩埚一套、环形坩埚一套；十二穴坩埚每穴配备同质衬套一个，另备三个。
4、 辅助离子源：采用优质考夫曼型离子源；
5、 石英晶体膜厚监控系统：双探头，可进行电子束蒸发源蒸发速率控制及电子束蒸发源挡板联动； -
具备离子源辅助沉积功能，可以完成增透膜、减反膜、带通滤波器、边缘截止滤波器等光学器件的制造。
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本设备主要针对在各种不同基片材料上使用各种镀膜材料进行光学薄膜的生产。
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300/小时
