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真空室极限真空≤6.6×10-6Pa；
溅射沉积薄膜前本底压强≤5×10-4Pa；
薄膜厚度均匀度：Ф200mm；
直径范围RSM值≤±5%、Ф150mm直径范围RSM值≤±3%；
样品台：自转带公转，转速0~30RPM可调；
靶枪：带水冷，可旋转，最多可装4个靶材并能够自动切换。 -
本设备为实验室自研设备，配备有双射频离子源、可见至近红外光控，能够实现相对自由的靶材溅射沉积功能。
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本设备服务内容为制备微纳米级的光学多层薄膜，包括红外截止滤光片、分色滤光片、高反射膜、减反射膜、长波通膜、短波通膜等。
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网上预约申请并电话沟通，申请时详细说明工艺参数。
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1200/小时
